Generador de activación por implante de plasma puntual UV en frío DIP

DIP Point Plasma es un dispositivo especializado diseñado para mejorar las características de los implantes regulares y aumentar la velocidad del proceso de osteointegración. Funciona haciendo que la superficie del implante sea más hidrofílica y eliminando los contaminantes de hidrocarburos que tienden a acumularse en la superficie con el tiempo. Esta hidrofilia mejorada fomenta la formación ósea en la superficie del implante, lo que conduce a una mejor osteointegración y un tiempo de recuperación reducido. Además, la aplicación de plasma estimula las células tisulares, lo que aumenta la circulación sanguínea y facilita la regeneración tisular.

La ventaja más notable de esta tecnología es que no solo limpia la superficie del implante y optimiza el procedimiento de implantación, sino que también lo hace rápidamente, completando el proceso en solo 60 segundos. Esta eficiencia significa que se puede realizar espontáneamente sin necesidad de planificación previa. Además, la operación se lleva a cabo sin comprometer la integridad del empaque del implante, lo que garantiza su esterilidad y su usabilidad inmediata.

Durante el proceso de activación del implante de plasma, se eliminan eficazmente los contaminantes microscópicos a base de carbono, mientras que se aumenta la energía de la superficie, mejorando la humectabilidad y promoviendo las interacciones de proteínas y células a nivel molecular. Además, el dispositivo puede procesar dos implantes simultáneamente manteniendo la barrera estéril, lo que agiliza aún más el procedimiento.

Indicaciones:

• Mejora de las características de los implantes regulares
• Optimización del proceso de osteointegración
• Hacer que las superficies de los implantes sean más hidrofílicas
• Eliminación de contaminantes de hidrocarburos
• Estimulación de células tisulares con plasma
• Acortamiento de los tiempos de recuperación generales

Características y beneficios:

• Mejora significativamente las características del implante para un rendimiento superior
• Mejora el proceso de osteointegración, asegurando una integración exitosa con el hueso
• Convierte la superficie del implante en altamente hidrofílica, optimizando las interacciones biológicas
• Elimina los contaminantes de hidrocarburos, asegurando una superficie de implante limpia e impecable
• Estimula la formación ósea directamente en la superficie del implante, fomentando una curación más rápida
• Utiliza energía de plasma para activar las células tisulares, promoviendo la regeneración tisular acelerada
• Operación rápida completada en solo 60 segundos, maximizando la eficiencia
• Ofrece flexibilidad para el uso espontáneo, eliminando la necesidad de una planificación previa meticulosa
• Mantiene la integridad del empaque del implante
• Garantiza la preparación inmediata del implante sin comprometer la esterilidad
• Capaz de procesar dos implantes simultáneamente, optimizando el tiempo y los recursos
• Compatible con cualquier marca de implantes con un empaque de vial estéril transparente

Características técnicas:

• Modelo: Plasma Active
• Tamaño: 150 x 354 x 267mm
• Pantalla: LCD IPS táctil capacitiva
• Capacidad: 2 viales de implantes de hasta 65mm de altura / 28mm de grosor
• Tiempo de procesamiento: 60-120 seg
• Salida: 220V, 50-60Hz
• Potencia: 200W
• Peso: 8kg

El paquete incluye 1 generador de plasma DIP

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